Caracterização de camadas antirrefletoras para células solares utilizando espectrofotometria UV/Vis e raios-X
Foram depositados filmes de óxido de alumínio sobre silício e vidro para aplicação como camada antirrefletora para células solares através de Deposição por Camadas Atômicas a 100°C, 150°C, 200°C e 250°C. A espessura e o índice de refração dos filmes foram medidos por elipsometria. Medidas de transmitância realizadas por espectrofotometria no vísivel foram submetidos ao software PUMA para extração de propriedades óticas de interesse, como a energia da banda proibida para cada filme.