Eletrodeposição de prata usando líquido iônico [HMIM+][HSO4−]

Para atender a demanda atual por química sustentável, desenvolve-se revestimentos com menor custo-benefício, onde se obtenha material eletródico de elevada qualidade sem riscos ao ambiente. Nesse contexto, o uso de líquidos iônicos é essencial quando comparado a soluções aquosas, devido à sua baixa toxicidade e estabilidade em elevadas temperaturas. Neste trabalho, eletrodepósitos de prata foram obtidos usando AgBF4 em hidrogenossulfato de 1-H-3-metilimidazol ([HMIM+][HSO4−]) a 23, 35 e 45 ºC para avaliar o efeito da temperatura e do modo de eletrodeposição. Experimentos voltamétricos foram realizados utilizando disco de ouro como eletrodo de trabalho, pseudo-referência de fio de prata e placa de platina como eletrodo auxiliar. No modo potenciostático, os revestimentos foram obtidos em −0,04 V durante 60, 300 e 600 s; no modo galvanostático, aplicou-se 5, 15 e 30 mA cm−2 para obtenção de revestimentos com espessura teórica de 10 m. Nos dois modos de deposição observou-se que a morfologia do material eletrodepositado sofreu alteração (tabela abaixo). Potenciostaticamente com o aumento da temperatura e do tempo de deposição houve sobreposição do material inicialmente eletrodepositado em regiões isoladas da superfície, resultando em revestimento uniforme. Galvanostaticamente, houve formação dendrítica de prata a 23 oC e 5 mA cm−2; com o aumento da temperatura e da densidade de corrente para 45 oC e 30 mA cm−2, verificou-se agora, além de uniforme, a formação de filme compacto. Assim, conclui-se que a eletrodeposição de prata em [HMIM+][HSO4−] é influenciada pelo modo e pela temperatura de deposição.