Jose Alexandre Diniz in XXIV Congresso de Iniciação Científica da Unicamp

Trabalhos 4

Fabricação e caracterização de estruturas semicondutoras tensionadas através da técnica de espectroscopia Raman.
Exatas

LUCAS BARROSO SPEJO ¹ ; JOSE ALEXANDRE DINIZ ¹ ; ANGÉLICA DENARDI DE BARROS ²

¹ Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação / UNICAMP ( Universidade Estadual de Campinas ) ;

² Universidade Estadual de Campinas

Silício tensionado

Espectroscopia Raman

Microfabricação MOS

Vol. 2, 2016 -
51689
Formation and characterization of Amorphous Silicon (a-Si) and Aluminum (Al) thin films for the development of Spacer Lithography Technique
Tecnológicas

LAIS OLIVEIRA DE SOUZA ¹ ; JOSE ALEXANDRE DINIZ ¹ ; ANDRESSA M. ROSA ² ; Jose Alexandre Diniz ²

¹ Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação / UNICAMP ( Universidade Estadual de Campinas ) ;

² Universidade Estadual de Campinas

Amorphous Silicon thin films

Aluminum thin films

Lithography

Vol. 2, 2016 -
51668
Electrodeposited nickel nanowires for magnetic-field effect transistor (MagFET)
Exatas

RENAN DANIEL DOMINGOS ¹ ; FANNY BERON ¹ ; M. V. PUYDINGER DOS SANTOS ¹ ; M. VELO ¹ ; J. BETTINI ¹ ; Jose Alexandre Diniz ¹ ; KLEBER ROBERTO PIROTA ¹

¹ Universidade Estadual de Campinas

nickel nanowires

magnetoresistance

Focused Ion Beam (FIB)

Vol. 2, 2016 -
50753
Physical Characteristics of TiOx Thin Films Obtained by DC Reactive Sputtering
Tecnológicas

VICTOR CARNEIRO LIMA ¹ ; IOSHIAKI DOI ¹ ; Jose Alexandre Diniz ² ; RODRIGO REIGOTA CESAR ²

¹ Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação / UNICAMP ( Universidade Estadual de Campinas ) ;

² Universidade Estadual de Campinas

Thin films

Titanuim oxide

DC Reactive Sputtering

Vol. 2, 2016 -
51237

Anais do Congresso de Iniciação Científica da Unicamp XXIV Congresso de Iniciação Científica da Unicamp

Jose Alexandre Diniz

Fabricação e caracterização de estruturas semicondutoras tensionadas através da técnica de espectroscopia Raman.

Formation and characterization of Amorphous Silicon (a-Si) and Aluminum (Al) thin films for the development of Spacer Lithography Technique

Electrodeposited nickel nanowires for magnetic-field effect transistor (MagFET)

Physical Characteristics of TiOx Thin Films Obtained by DC Reactive Sputtering

Coautores(as) (13)

FANNY BERON

KLEBER ROBERTO PIROTA

RENAN DANIEL DOMINGOS

M. V. PUYDINGER DOS SANTOS

M. VELO

J. BETTINI

VICTOR CARNEIRO LIMA

IOSHIAKI DOI

RODRIGO REIGOTA CESAR

LAIS OLIVEIRA DE SOUZA

ANDRESSA M. ROSA

LUCAS BARROSO SPEJO

ANGÉLICA DENARDI DE BARROS

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